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Mensaje: <blockquote data-quote="ARGENTVS" data-source="post: 3661439" data-attributes="member: 93"><p>/www.xataka.com/empresas-y-economia/china-prepara-jaque-mate-a-eeuu-tendra-su-propio-equipo-litografia-uve-para-fabricar-chips-2025/</p><p></p><h3>China prepara el jaque mate a EEUU: tendrá su propio equipo de litografía UVE para fabricar chips en 2025</h3><p><img src="https://i-blogs-es.cdn.ampproject.org/ii/AW/s/i.blogs.es/3458d6/uve-ap/650_1200.jpeg" alt="Uve Ap" class="fr-fic fr-dii fr-draggable " style="" /></p><ul> <li data-xf-list-type="ul"> <h3>Las filtraciones aseguran que Huawei ya está probando en Dongguan el primer equipo de litografía UVE chino</h3> </li> <li data-xf-list-type="ul"> <h3>Presumiblemente China espera iniciar la producción a gran escala de esta máquina durante 2026</h3> </li> </ul><p></p><p></p><p>Esto no lo esperábamos. Ni nosotros ni buena parte de <a href="https://www.xataka.com/empresas-y-economia/director-general-asml-se-moja-china-esta-10-15-anos-atrasada-chips-que-occidente" target="_blank">los expertos en semiconductores</a> que se han mojado tanto fuera como dentro de China. Y es que hay pistas sólidas que sostienen que Huawei ya está probando en sus instalaciones de Dongguan, en la provincia de Cantón, el primer equipo de <a href="https://www.xataka.com/componentes/asml-no-ha-recorrido-sola-su-camino-exito-fabricacion-chips-estas-dos-empresas-sus-mejores-aliados" target="_blank">fotolitografía de ultravioleta extremo</a> (UVE) <strong>diseñado y fabricado íntegramente en China</strong>. La fotografía filtrada que publicamos un poco más abajo en este artículo lo corrobora.</p><p></p><p></p><p>Las filtraciones <a href="https://wccftech.com/china-in-house-euv-machines-entering-trial-production-in-q3-2025/" target="_blank">aseguran</a> que a diferencia de las máquinas UVE que produce la compañía neerlandesa ASML, este equipo de litografía chino emplea una fuente de luz ultravioleta de tipo LDP (descarga inducida por láser), y no de clase LPP (plasma generado por láser). Presumiblemente el desarrollo de esta fuente de emisión de radiación ultravioleta es el hito que ha permitido a los ingenieros chinos desarrollar una máquina que <a href="https://www.xataka.com/empresas-y-economia/china-afronta-su-mayor-desafio-recortar-20-anos-retraso-que-separan-su-tecnologia-chips-occidental" target="_blank">muchos expertos no veían posible</a> antes de cinco años en el mejor de los casos.</p><p></p><p>Por el momento lo más prudente es que tomemos esta información con cautela, pero nos parece lo suficientemente sólida para hacernos eco de ella. Un apunte interesante es que sobre el papel la fuente LDP es capaz de generar luz UVE con una longitud de onda de 13,5 nm, por lo que este prototipo chino debería ser capaz de competir de tú a tú con <a href="https://www.xataka.com/componentes/guerra-nanometros-no-pelean-solo-intel-tsmc-globalfoundries-samsung-quien-gobierna-sombra-asml" target="_blank">las máquinas de fotolitografía UVE de ASML</a>. Además, las filtraciones sostienen que China iniciará la producción de más máquinas para test durante el tercer trimestre de este año con el propósito de lanzarse a la fabricación a gran escala de estos equipos durante 2026.</p><p></p><h2>Por qué los equipos de fotolitografía UVE son tan importantes para China</h2><p>Las sanciones de <a href="https://www.xataka.com/empresas-y-economia/eeuu-ha-cumplido-su-promesa-acaba-lanzar-su-mayor-ataque-a-industria-semiconductores-china" target="_blank">EEUU y sus aliados</a> impiden a ASML entregar a sus clientes chinos sus equipos de fabricación de circuitos integrados más sofisticados. Sus máquinas UVE pertenecen a esta categoría. Las compañías chinas Huawei y SMIC han logrado producir chips de 7 nm empleando las máquinas de litografía de ultravioleta profundo (UVP) de ASML que tienen en su poder, pero para hacerlo posible han tenido que recurrir a una técnica conocida como <em>multiple patterning</em>.</p></blockquote><p></p>

Verificación: Guerra desarrollada entre Argentina y el Reino Unido en 1982